Herstellung eines strukturierten Wafers
Herstellung eines strukturierten Wafers mit allen notwendigen Prozessen, unter industriellen Reinraumbedingungen.
Lehrgangsziele:
Herstellung eines strukturierten Wafers mit allen notwendigen Prozessen, unter industriellen Reinraumbedingungen. Zwingende Voraussetzung sind Kenntnisse der Halbleitertechnologien.
Lehrgangsinhalte:
- Einsatz der Verfahren Lithografie (inkl. Belacken, Belichten, Entwickeln, Tempern)
- Ätzen
- Reinigen
- Lackentfernung
- Diffusion
- Sputtern mit Titan
- Sputtern mit Aluminium
- Messverfahren
- Wafertest
Zielgruppe:
Mitarbeiter aus der Halbleiterindustrie oder aus Unternehmen mit lithografischen Prozessen
